GaN FETのモデリングとシミュレーションがトランジスタ技術2015年5月号に掲載
されました。これは、MOSFET LEVEL=3モデル+等価回路モデルの組み合わせ
であり、次世代MOSFETのデバイスモデリングは大体この考え方で再現性が
得られます。
もう1つは、簡易モデルですが、LTspiceのVDMOSモデルを活用してもある程度の
再現性が得られます。ただし、再現性のある電気的項目は限定されます。
メリットは、収束性のよさになります。
ビー・テクノロジー
堀米 毅
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